• Главная

  • Вакуумные камеры

  • Электронно-лучевое оборудование

  • Услуги

  • Установки

  • Устройства

  • Блоки питания

  • Вакуумметры

  • Медиа

  • Контакты

  • Источник ионов ИИ-850Л


    Производитель: Beams&Plasmas
    Код товара: ЛЦМК.269
    Доступность: На складе
    0.00 р. Без НДС: 0.00 р.
    В корзину

    Источник ионов с полым прямоугольным пучком 825x42x5 мм и током до 2000 мА. Наибольшая длина пучка в семействе.

    Устройство предназначено для генерации линейного потока ионов рабочего газа с энергией 300-2500 эВ для широкого спектра применений:

    ионной очистки, ионного травления, ионной полировки, ионной модификации поверхности, ассистирования при напылении.

    Электрические параметры
    Предельно допустимое напряжение, В 5500
    Напряжение питания, В 500–5000
    Общие характеристики
    Рабочие газы любой, не вызывающий осаждения высокоомных слоёв на деталях устройства
    Охлаждающая жидкость дистиллированная вода, 20 % раствор этилового спирта в дистиллированной воде по ГОСТ 6709-72
    Минимальный расход охлаждающей жидкости, л/мин 3
    Масса, кг 11,1
    Ионный источник
    Диапазон рабочих давлений в камере, Па 0,001–1
    Длина пучка, мм 825
    Форма пучка Полый прямоугольный
    Ширина пучка, мм 42
    Толщина пучка, мм 5
    Энергия ионов, эВ 250–2500
    Максимальный ток пучка, мА 2000
    Газовая эффективность, мА/sccm 9
    Максимальная линейная плотность тока, мА/см 25
    Максимальный угол расхождения пучка, ° 2°

    Нет отзывов об этом товаре.