Источники ионов

Источники ионов

Ионные источники с холодным катодом производства ООО «ЛВТ+» относятся к классу ускорителей с анодным слоем (УАС). Отличаются простотой и удобством в эксплуатации и высокой надежностью. Выдерживают более 10 лет интенсивной эксплуатации. Процессы перезарядки быстрых ионов позволяют использовать данные ионные источники без катодов-компенсаторов, что упрощает эксплуатацию. Ионные источники типа УАС могут работать в высоковольтном режиме, также возможен сильноточный режим. Выпускаются две конфигурации: круглые, с трубчатым пучком, и протяженные, у которых есть значительный линейный участок.

Задачи, решаемые при помощи данных источников:

  • ионно-лучевое распыление (работа с небольшими дорогостоящими мишенями),
  • ионное ассистирование при напылении,
  • ионное травление подложек.

Использование ионных источников обеспечивает надежное травление (очистку) подложек, высокую адгезию материала и структурное совершенство напыляемых пленок.


Источник ионов D52

Источник ионов D52

Предназначен для эффективного распыления металлов, ассистирования при магнетронном напылении тонких пленок проводящих материалов.

Источник ионов L125

Источник ионов L125

Предназначен для генерации линейного потока ионов рабочего газа с энергией 500-2500 эВ для широкого спектра применений: ионной очистки, ионного травления, ионной полировки, ионной модификации поверхности, ассистирования при напылении.

Источник ионов L145

Источник ионов L145

Предназначен для генерации линейного потока ионов рабочего газа с энергией 500-2500 эВ для широкого спектра применений: ионной очистки, ионного травления, ионной полировки, ионной модификации поверхности, ассистирования при напылении.

Источник ионов L250

Источник ионов L250

Предназначен для генерации линейного потока ионов рабочего газа с энергией 500-2500 эВ для широкого спектра применений: ионной очистки, ионного травления, ионной полировки, ионной модификации поверхности, ассистирования при напылении.

Источник ионов L280

Источник ионов L280

Предназначен для генерации линейного потока ионов рабочего газа с энергией 500-2500 эВ для широкого спектра применений: ионной очистки, ионного травления, ионной полировки, ионной модификации поверхности, ассистирования при напылении.

Источник ионов L400

Источник ионов L400

Предназначен для генерации линейного потока ионов рабочего газа с энергией 500-2500 эВ для широкого спектра применений: ионной очистки, ионного травления, ионной полировки, ионной модификации поверхности, ассистирования при напылении.

Источник ионов L500

Источник ионов L500

Предназначен для генерации линейного потока ионов рабочего газа с энергией 500-2500 эВ для широкого спектра применений: ионной очистки, ионного травления, ионной полировки, ионной модификации поверхности, ассистирования при напылении.

Источник ионов L700

Источник ионов L700

Предназначен для генерации линейного потока ионов рабочего газа с энергией 500-2500 эВ для широкого спектра применений: ионной очистки, ионного травления, ионной полировки, ионной модификации поверхности, ассистирования при напылении.

Показано с 1 по 8 из 8 (всего 1 страниц)