В корзине пусто!
Ипульсный дуговой испаритель предназначен для генерации потока углеродной плазмы, конденсируемой на подложке. Материал катода испаряется в катодном пятне ипульсной вакуумной дуги, горящеё на торцевой поверхности катода. Благодаря действию магнитного поля протекающего тока, углеродная плазма ускоряется в сторону подложки, обеспечивая высокую твёрдость покрытия.
1 - катод;
2 - дополнительный анод;
3, 4 - поджигающие электроды;
5 - ввод;
6 - контакт;
7 - изолятор;
8 - анод;
9 - корпус.
0 отзывов / Написать отзыв
Источник ионов с полым прямоугольным пучком 100x42x5 мм и током до 250 мА. Компактное исполнение для..
Устройство предназначено для нанесения покрытий методом вакуумно-плазменного напыления.Принцип работ..
Дуговой испаритель предназначен для нанесения покрытий методом вакуумнодугового испарения. Материал ..
Блок предназначен для зарядки ёмкостного накопителя и инициации разряда импульсного дугового испарит..
Линейный электродуговой испаритель (ЛЭДИ) и блок питания линейного дугового испарителя БП-357L предн..