Принцип действия устройства основан на повышении плотности газового разряда в скрещенных электрическом и магнитном полях.

В режиме постоянного тока возможно нанесение металлов, сплавов (в том числе резистивных) с сохранением стехиометрического состава.

При использовании импульсного среднечастотного питания возможно напыление полупроводников, а также диэлектриков в реактивном режиме из металлических мишеней.