Предназначен для нанесения тонких пленок различных материалов на подложку в вакууме.
Принцип действия устройства основан на повышении плотности газового разряда в скрещенных электрическом и магнитном полях.
Назначение: эффективное распыление мишеней из проводящих материалов ионной бомбардировкой в плазме аномального тлеющего разряда.
В режиме постоянного тока возможно нанесение металлов, сплавов (в том числе резистивных) с сохранением стехиометрического состава.
При использовании импульсного среднечастотного питания возможно напыление полупроводников, а также диэлектриков в реактивном режиме из металлических мишеней.
Конструкция позволяет производить различные комбинации размещения магнетрона в камере.
| Измерение давления | |
| Диапазон рабочих давлений, Па | 0,05...10 Па |
| Магнетрон | |
| Максимальная толщина мишени | 12 мм |
| Длина мишени | 516 мм |
| Ширина мишени | 110 мм |
| Выходные параметры | |
| Мощность, Вт | 3 кВт |
Нет отзывов об этом товаре.