В корзине пусто!
Принцип работы устройства заключается в ионизации атомов рабочего газа в разряде постоянного тока в скрещенных магнитном и электрическом полях. Разряд образуется при подаче рабочего газа и напряжения питания в область, ограниченную двумя магнитными полюсами катода и анодом.
Максимальная скорость распыления материала мишени достигается при угле падения ионов около 30° к её поверхности (точное значение зависит от рода рабочего газа, материала мишени и рабочего напряжения).
0 отзывов / Написать отзыв
Установка вакуумного нанесения PVD покрытий НИКА-170 предназначена для нанесения &nbs..
0.00 р. Без НДС: 0.00 р.
Теги: Источник ионов L500, источник ионов, 500, Технологические устройства, устройства, ЛЦМК 264, L500, ИИ-500, ИИ 500