Магнетрон для прямоугольных мишеней номинальной длиной 400 мм.
Назначение: эффективное распыление мишеней из проводящих материалов ионной бомбардировкой в плазме аномального тлеющего разряда.
В режиме постоянного тока возможно нанесение металлов, сплавов (в том числе резистивных) с сохранением стехиометрического состава.
При использовании импульсного среднечастотного питания возможно напыление полупроводников, а также диэлектриков в реактивном режиме из металлических мишеней.
Конструкция позволяет производить различные комбинации размещения магнетрона в камере.
Устройства производства ООО "Лаборатория вакуумных технологий плюс" используются в различных системах для выполнения разнообразного спектра задач.
Фото с сайта https://epos-nsk.ru/portfolio/promyshlennaya-magnetronnaya-ustanovka/
| Измерение давления | |
| Диапазон рабочих давлений, Па | 0,01..10 Па |
| Магнетрон | |
| Максимальная толщина мишени | 10 мм |
| Длина мишени | 400 мм |
| Ширина мишени | 94 мм |
| Максимальный ток, А | 20 А |
| Выходные параметры | |
| Мощность, Вт | 12000 Вт |
| Напряжение | 2000 В |
Нет отзывов об этом товаре.