Газоразрядные источники ионов, генерирующие протяжённые пучки. По принципу действия - ускоритель с анодным слоем (УАС). Высокая однородность распределения плотности ионного тока вдоль источника делает его оптимальным выбором для обработки подложек на барабане или карусели. Линейный источник ионов с высокой однородностью плотности ионного тока по ширине пучка. Длина зоны равномерности 350 мм.

Ионные источники применяются для:

  • распыления материалов из диэлектрических и проводящих мишеней;
  • ассистирования при магнетронном напылении;
  • ионной очистки, травления;
  • полировка;
  • плазмохимическое осаждение из газовой фазы (PECVD);
  • модификация поверхности.


Электрические параметры
Напряжение питания 500-5000 В
Ионный источник
Длина пучка 370 мм
Форма пучка Полый прямоугольный
Ширина пучка 42 мм
Толщина пучка 5 мм
Максимальный ток пучка 600 мА

Написать отзыв

Внимание: HTML не поддерживается! Используйте обычный текст!
    Плохо           Хорошо
Captcha

Источник ионов L400

  • Производитель: Beams&Plasmas
  • Код товара: ЛЦМК.228
  • Доступность: На складе
  • Цена договорная


Доступные опции