Линейный источник ионов с высокой однородностью плотности ионного тока по ширине пучка.

Газоразрядные ионные источники, генерирующие протяжённые пучки, по принципу действия - ускорители с анодным слоем (УАС). Высокая однородность распределения плотности ионного тока вдоль источника делает его оптимальным выбором для обработки подложек на барабане или карусели. 

Ионные источники применяются для:

  • распыления материалов из диэлектрических и проводящих мишеней;
  • ассистирования при магнетронном напылении;
  • ионной очистки, травления;
  • полировка;
  • плазмохимическое осаждение из газовой фазы (PECVD);
  • модификация поверхности. 



Ионный источник
Длина пучка 120 мм
Форма пучка Полый прямоугольный
Ширина пучка 42 мм
Толщина пучка 5 мм
Энергия ионов 300..2500 эВ
Максимальный ток пучка 250 мА
Газовая эффективность 9 мА/sccm
Максимальная линейная плотность тока 25 мА/см
Максимальный угол расхождения пучка

Написать отзыв

Внимание: HTML не поддерживается! Используйте обычный текст!
    Плохо           Хорошо
Captcha

Источник ионов L145

  • Производитель: Beams&Plasmas
  • Код товара: ЛЦМК.247
  • Доступность: Предзаказ

Доступные опции


Рекомендуемые товары

Источник ионов D52

Источник ионов D52

Газоразрядный ионный источник, генерирующий пучок трубчатой формы. Благодаря тому, что позволяет ско..

0.00 р. Без НДС: 0.00 р.