Установки нанесения резистивных слоёв

Установки нанесения резистивных слоёв используются для осаждения с контролем поверхностного сопротивления методом магнетронного распыления и термического испарения. Резистивные слои используются при тонкоплёночной технологии производства гибридных интегральных схем (ГИС), прецизионных и мощных резисторов, датчиков температуры, тензодатчиков.

Резистивные функциональные слои, получаемые вакуумными методами нанесения покрытий могут представлять собой:

• тонкие металлические плёнки (тантал, платина, хром, нихром), применяются для изготовления термо- и тензодатчиков, мощных прецизионных резисторов
• специальные резистивные сплавы, обладающие высокой стабильностью и низким ТКС в широком диапазоне температур
• одно- и многокомпонентные нитриды, позволяющие получать стабильные резисторы, сохраняющие свои параметры при высокой рабочей температуре, с контролируемым ТКС
• оксиды, используются для получения прозрачных проводящих покрытий

Наиболее удобным и универсальным методом нанесения резистивных слоёв является магнетронное напыление, позволяющее получать все перечисленные выше виды плёнок в одной системе с быстрой сменой технологии. Магнетронное напыление позволяет осуществлять в том числе и такие технологические процессы, которые невозможно реализовать другими методами, например совместное напыление двух различных материалов одновременно. Для совместимости с технологическими требованиями, разработанными до широкого распространения метода магнетронного напыления, можно производить напыление резистивных слоёв методом термического испарения в вакууме, в том числе взрывным испарением с подачей порошка исходного материала из вибробункера.