В корзине пусто!
Устройства распыления, ионной очистки, генерации плазмы, испарения материалов.
Предназначен для распыления мишеней из проводящих материалов в вакууме.Диаметр 100 мм.
Цена договорная
Предназначен для распыления мишеней из проводящих материалов в вакууме. Диаметр 50 мм.
Предназначен для распыления кольцевой мишени из никеля вакууме.
Предназначен для эффективного распыления мишеней из проводящих материалов ионной бомбардировкой в плазме аномального тлеющего разряда.
Предназначен для нанесения тонких пленок различных материалов на подложку в вакууме.
Предназначен для нагрева изделий в вакуумной камере с помощью нагревателя прямого накала.
Предназначен для нагрева и поддержания температуры подложек в вакуумной камере с помощью ленточного нагревателя прямого накала.
Устройство предназначено для нагрева изделий в вакуумной камере с помощью ленточного нагревателя прямого накала.
