В корзине пусто!
Устройства распыления, ионной очистки, генерации плазмы, испарения материалов.
Предназначен для эффективного распыления мишеней из проводящих материалов ионной бомбардировкой в плазме аномального тлеющего разряда.
Цена договорная
Предназначен для нанесения тонких пленок различных материалов на подложку в вакууме.
Предназначен для нагрева изделий в вакуумной камере с помощью нагревателя прямого накала.
Предназначен для нагрева и поддержания температуры подложек в вакуумной камере с помощью ленточного нагревателя прямого накала.
Устройство предназначено для нагрева изделий в вакуумной камере с помощью ленточного нагревателя прямого накала.
Предназначены для создания плазмы высокой плотности в технологическом объёме.
Позволяют сконцентрировать высокочастотную мощность в небольшом объёме для получения высокой интенсивности обработки.
Предназначен для испарения магнитных и немагнитных электропроводящих материалов в вакууме.
