В корзине пусто!
Устройства распыления, ионной очистки, генерации плазмы, испарения материалов.
Предназначены для создания плазмы высокой плотности в технологическом объёме.
Позволяют сконцентрировать высокочастотную мощность в небольшом объёме для получения высокой интенсивности обработки.
Цена договорная
Предназначен для испарения магнитных и немагнитных электропроводящих материалов в вакууме.
Предназначен для питания прямоканальных нагревателей и термических испарителей резистивного типа.
Предназначен для питания термических испарителей резистивного типа и прямонакальных нагревателей.
Электронно-лучевой испаритель номинальной мощностью 10 кВт.
Электронно-лучевой испаритель с разворотом пучка на 225°
