В корзине пусто!
Технологические устройства вакуумной системы производства ООО «Лаборатория вакуумных технологий плюс»: магнетронные распылительные системы, источники ионов, генераторы плазмы, нагреватели, термические испарители, дуговые испарители, электронно-лучевые пушки и испарители, элементы вакуумной системы.
К устройствам поставляются специализированные блоки питания ЛВТ+, готовые комплекты «устройство + блок питания» — в разделе «Комплекты устройств с блоками питания».
Импульсный дуговой испаритель для импульсного дугового напыления плёнок алмазоподобного углерода - Diamond-like carbon (DLC).
Цена договорная
Импульсный дуговой испаритель с блоком питания БП-346 для напыления плёнок алмазоподобного углерода - Diamond-like carbon (DLC).
Испаритель состоит из медного корпуса с охлаждаемым присоединительным фланцем KF40, с завальцованным спиралью электронагревателем кабельным ЭНК-01-850/80-1,62-1,42-0,2 (нагреватель) с переходником М14 (вакуумным вводом питания).
Предназначен для испарения материалов из цилиндрического тугоплавкого тигля, нагреваемого электронным потоком с кольцеобразного катода
Компактный источник ионов с пучком 100x42x5 мм и током до 250 мА для ионной очистки и ассистирования при напылении.
Источник ионов с пучком 120x42x5 мм и током до 300 мА. Ионная очистка, травление и ассистирование при напылении протяжённых подложек.
Источник ионов с пучком 200x42x5 мм и током до 300 мА. Высокая однородность плотности ионного тока по ширине пучка.
Источник ионов с пучком 254x42x5 мм и током до 250 мА для ионной очистки и травления подложек.
Источник ионов с пучком 370x42x5 мм и током до 600 мА для ионно-лучевой обработки подложек большой площади.
Источник ионов с пучком 474x42x5 мм и током до 1250 мА для ионной очистки и ассистирования.
Газоразрядный источник ионов с пучком трубчатой формы диаметром 24 мм. Ток пучка — 120 мА при высокой плотности тока.
Источник ионов с пучком 574x42x5 мм и током до 1500 мА.
Источник ионов с пучком 650x42x5 мм и током до 2000 мА для обработки протяжённых подложек.
Источник ионов с пучком 825x42x5 мм и током до 2000 мА. Наибольшая длина пучка в семействе ИИ.
Устройство предназначено для нанесения покрытий методом вакуумно-плазменного напыления.