В корзине пусто!
Устройства распыления, ионной очистки, генерации плазмы, испарения материалов.
Испаритель состоит из медного корпуса с охлаждаемым присоединительным фланцем KF40, с завальцованным спиралью электронагревателем кабельным ЭНК-01-850/80-1,62-1,42-0,2 (нагреватель) с переходником М14 (вакуумным вводом питания).
Цена договорная
Объём тигля 17 см3
Предназначен для генерации линейного потока ионов рабочего газа с энергией 500-2500 эВ для широкого спектра применений: ионной очистки, ионного травления, ионной полировки, ионной модификации поверхности, ассистирования при напылении.
Предназначен для эффективного распыления металлов, ассистирования при магнетронном напылении тонких пленок проводящих материалов.
Устройство предназначено для генерации линейного потока ионов рабочего газа с энергией 300-2500 эВ
Устройство предназначено для нанесения покрытий методом вакуумно-плазменного напыления.
Предназначен для распыления мишеней из проводящих материалов в вакууме
Предназначен для распыления мишеней из проводящих материалов в вакууме. Диаметр 50 мм.
Предназначен для распыления кольцевой мишени из никеля вакууме.
