Магнетрон-250 протяженный предназначен для нанесения тонких пленок различных материалов на подложку в вакууме. В режиме постоянного тока возможно нанесение металлов, сплавов (в том числе резистивных) с сохранением стехиометрического состава. При использовании импульсного среднечастотного питания возможно напыление полупроводников, а также диэлектриков в реактивном режиме из металлических мишеней.

Конструкция позволяет производить различные комбинации размещения магнетрона в камере.