Магнетрон для прямоугольных мишеней номинальной длиной 400 мм.

Назначение: эффективное распыление мишеней из проводящих материалов ионной бомбардировкой в плазме аномального тлеющего разряда.

В режиме постоянного тока возможно нанесение металлов, сплавов (в том числе резистивных) с сохранением стехиометрического состава.

При использовании импульсного среднечастотного питания возможно напыление полупроводников, а также диэлектриков в реактивном режиме из металлических мишеней.

Конструкция позволяет производить различные комбинации размещения магнетрона в камере.

Устройства производства ООО "Лаборатория вакуумных технологий плюс" используются в различных системах для выполнения разнообразного спектра задач.

На фото ВЧ-магнетрон М-400 производства "ЛВТ+" в комплекте с согласующим устройством СУРА на промышленной установке магнетронной установке – EPOS-PVD-440 ООО ЭПОС-Инжиниринг

Фото с сайта https://epos-nsk.ru/portfolio/promyshlennaya-magnetronnaya-ustanovka/