В корзине пусто!
Установки травления и осаждения применяются для ионной и плазмохимической обработки в среде высокоплотной плазмы. Представлены серией Ника-2012-500 - установка ионного травления НИКА-130, установка ионного травления НИКА-155, серией Ника-2013-500 МО / МТ - установка плазмохимического травления НИКА-134, серией Ника-2014, ПХО / ПХТ.
Установка НИКА-2014 ПХТ, предназначена для глубокого анизотропного плазмохимического травления полупроводников и диэлектриков.
Цена договорная
Установка напыления проводящих слоёв НИКА-123
Обработка изделий сложной формы, ионная очистка и травление ионном пучком средних энергий (500..2000 эВ)
Травление кремниевых пластин высокочастотным магнетроном
Обработка изделий сложной формы ионном пучком средних энергий (500..2000 эВ) за счёт ионного источника - ускоритель с анодным слоем (УАС)
