Травление / Осаждение

Установки травления и осаждения  применяются для ионной и плазмохимической обработки  в среде высокоплотной плазмы. Представлены серией Ника-2012-500 - установка ионного травления НИКА-130, установка ионного травления НИКА-155, серией Ника-2013-500 МО / МТ - установка плазмохимического травления НИКА-134, серией Ника-2014, ПХО / ПХТ. 


Ника - 2014 ПХТ

Ника - 2014 ПХТ

Глубокое анизотропное плазмохимическое травление полупроводников и диэлектриков

Цена договорная

НИКА-123 Установка напыления проводящих слоёв

НИКА-123 Установка напыления проводящих слоёв

Установка напыления проводящих слоёв НИКА-123 

Цена договорная

НИКА-127 Вакуумная шлюзовая установка

НИКА-127 Вакуумная шлюзовая установка

Плазмохимическое травление в вакууме 

Цена договорная

НИКА-130 Установка ионного травления

НИКА-130 Установка ионного травления

Обработка изделий сложной формы, ионная очистка и травление ионном пучком средних энергий (500..2000 эВ) 

Цена договорная

НИКА-134 Установка плазмохимического  травления

НИКА-134 Установка плазмохимического травления

Травление кремниевых пластин высокочастотным магнетроном

Цена договорная

НИКА-155 Установка ионного травления

НИКА-155 Установка ионного травления

Обработка изделий сложной формы ионном пучком - технология ионного травления

Цена договорная

Показано с 1 по 6 из 6 (всего 1 страниц)