Травление / Осаждение

Установки травления и осаждения  применяются для ионной и плазмохимической обработки  в среде высокоплотной плазмы. Представлены серией Ника-2012-500 - установка ионного травления НИКА-130, установка ионного травления НИКА-155, серией Ника-2013-500 МО / МТ - установка плазмохимического травления НИКА-134, серией Ника-2014, ПХО / ПХТ. 


Ника - 2014 ПХТ

Ника - 2014 ПХТ

Установка НИКА-2014 ПХТ, предназначена для глубокого анизотропного плазмохимического травления полупроводников и диэлектриков.

Цена договорная

НИКА-130 Установка ионного травления

НИКА-130 Установка ионного травления

Обработка изделий сложной формы ионном пучком средних энергий (500..2000 эВ)

Цена договорная

НИКА-155 Установка ионного травления

НИКА-155 Установка ионного травления

Обработка изделий сложной формы ионном пучком средних энергий (500..2000 эВ)

Цена договорная

Установка напыления проводящих слоёв НИКА-123

Установка напыления проводящих слоёв НИКА-123

Установка напыления проводящих слоёв НИКА-123 

Цена договорная

Установка плазмохимического  травления НИКА-134

Установка плазмохимического травления НИКА-134

Травление кремниевых пластин высокочастотным магнетроном

Цена договорная

Показано с 1 по 5 из 5 (всего 1 страниц)